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《面向芯片、器件与系统的液态金属先进冷却》出版

2019-12-16 理化技术研究所
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  近日,中国科学院理化技术研究所研究员刘静编写的英文著作《面向芯片、器件与系统的液态金属先进冷却》(上海科学技术出版社,2020)出版。
  作者历时近10年时间,系统总结了国内外特别是由其团队首创并系统发展起来的液态金属芯片冷却理论与技术体系。全书阐述新原理、新方法与新应用,交叉性强,学科领域跨度大,是一本兼具理论学术意义和实际参考价值的学术著作,可供热科学、物理、电子、计算机、机械、器件、材料、设计等领域的研究人员、工程师以及大专院校有关专业师生阅读参考。

爱乐透彩票  该书的出版有望推动液态金属芯片散热这一新兴学科领域的可持续健康发展。

《面向芯片、器件与系统的先进液态金属冷却》

打印 责任编辑:江澄

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